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发明名称 PLASMA PROCESSING POWER MONITORING DEVICE
摘要
申请公布号 JPS6481197(A) 申请公布日期 1989.03.27
申请号 JP19870237107 申请日期 1987.09.24
申请人 HITACHI LTD 发明人 WATANABE ETSURO;ITO FUMIKAZU
分类号 H01L21/302;H01L21/3065;H05H1/46 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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