发明名称 Method for analysing a sample by etching with a beam of particles, and apparatus therefor.
摘要 <p>L'invention concerne un procédé d'analyse d'un échantillon solide par érosion au moyen d'un faisceau de particules, pulsé, consistant à : - balayer l'échantillon sur une surface dite surface de balayage (6), pour creuser un cratère à fond plat, ce fond plat (2) constituant une surface dite d'analyse (5) ; - ioniser les particules arrachées à la surface d'analyse (5), au moyen d'un faisceau laser pulsé ; - identifier les particules arrachées et ionisées, au moyen d'un spectromètre de masse. Le temps mort disponible entre deux impulsions du faisceau laser est utilisé pour éroder les flancs (3) du cratère, car ils doivent être érodés aussi, bien qu'ils ne fassent pas partie de la surface d'analyse proprement dite (5). Ainsi le temps nécessaire pour éroder l'échantillon jusqu'à une certaine profondeur est minimisée sans perdre d'informations. Application à la mesure du profil en profondeur de la concentration des impuretés dans un échantillon solide.</p>
申请公布号 EP0308304(A1) 申请公布日期 1989.03.22
申请号 EP19880402279 申请日期 1988.09.09
申请人 CAMECA;IMEC INTER UNIVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM 发明人 VANDERVORST, WIELFRIED;RASSER, BERNARD;DE BISSCHOP, PETER
分类号 G01N27/64;G01N23/225;H01J37/256;H01J49/16;(IPC1-7):H01J49/16 主分类号 G01N27/64
代理机构 代理人
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