APPAREIL POUR SYSTEMES DE CROISSANCE DES CRISTAUX DENDRITIQUES EN RUBAN

摘要

Appareil pour systèmes de croissance des cristaux dendritiques en ruban.Cet appareil 1 permettant des vitesses plus élevées de croissance comprend un couvercle 11 et un sous-couvercle 15 utilisés pour former entre eux un espace isolant, ce qui maintient une température suffisamment élevée de la surface du bain de silicium en fusion 21 et assure une croissance stable en ruban, tout en permettant une transmission plus efficace de la chaleur du ruban dendritique 9 en cours de croissance au couvercle plus froid 11 du " suscepteur ".Applications : notamment au tirage du silicium en ruban.