发明名称 |
整个半导体层无电气缺陷的半导体器件及其制造方法 |
摘要 |
本发明介绍了一种没有因针孔或其它缝隙等缺陷引起的漏泄电流的经过改进的半导体器件,还介绍了一种加工半导体器件的经过改良的方法。按照本发明,在制造半导体层过程中所产生的缝隙在用淀积法制造电极之前用绝缘体进行充填。借助这种结构,即使在半导体层上有透明电极,也不会形成短路电流路径。 |
申请公布号 |
CN1003481B |
申请公布日期 |
1989.03.01 |
申请号 |
CN86106409.7 |
申请日期 |
1986.11.06 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
山崎舜平;铃木邦夫;金花美树雄;深田武;阿部雅芳;小林一平;柴田克彦;薄田真人;永山進;小柳薰 |
分类号 |
H01L31/04;H01L31/10;H01L31/18;H01L33/00;H01L25/02 |
主分类号 |
H01L31/04 |
代理机构 |
中国专利代理有限公司 |
代理人 |
肖春京;萧掬昌 |
主权项 |
1.一种半导体器件,其特征在于,该器件包括:一层半导体层;一对电极,其间放置所说半导体层;一种光可固化的树脂,用以治愈在所说半导体层的制造期间无意在其中产生的缝隙。 |
地址 |
日本国神奈川县厚木市长谷398番地 |