| 发明名称 |
FORMING METHOD OF POLYSILICON LAYER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS6448411(A) |
申请公布日期 |
1989.02.22 |
| 申请号 |
JP19870205798 |
申请日期 |
1987.08.18 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
MIENO FUMITAKE;NAKAZAWA TSUTOMU;FURUMURA YUJI;ESHITA TAKASHI |
| 分类号 |
H01L21/84;H01L21/20;H01L21/205 |
主分类号 |
H01L21/84 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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