发明名称 | 新颖组成物及防止反应器积垢的方法和应用 | ||
摘要 | 包含上式的组成物,(式中n的平均值为1至约5)可用来减轻或消除在氯乙烯和共聚用单体聚合反应时形成的积垢。本组成物乃由吩噻嗪和甲醛在液态稀释剂中反应而得,该稀释剂可溶解吩噻嗪,但不溶解吩噻嗪和甲醛的二聚物,本制备方法较佳为在强酸触媒存在下进行。甲醛较佳为在反应过程中慢慢地加入反应混合物中。产物可经过滤及干燥。 | ||
申请公布号 | CN1031228A | 申请公布日期 | 1989.02.22 |
申请号 | CN88104758.9 | 申请日期 | 1988.07.30 |
申请人 | 西洋化学股份有限公司 | 发明人 | 来蒙得·C·第渥德;保罗·O·洪 |
分类号 | C07D279/20;C08F214/06;C08F2/18 | 主分类号 | C07D279/20 |
代理机构 | 上海专利事务所 | 代理人 | 张绮霞;吴俊 |
主权项 | 1、具有下式的组成物: | ||
地址 | 美国纽约 |