| 发明名称 |
CLEANING AND OXIDATION OF SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPS6445131(A) |
申请公布日期 |
1989.02.17 |
| 申请号 |
JP19870201720 |
申请日期 |
1987.08.14 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
MATSUZAKI HARUMI;OKOCHI ISAO;EBARA KATSUYA;TAKAHASHI SANKICHI;HISHINUMA TAKAO |
| 分类号 |
B01D11/04;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/316 |
主分类号 |
B01D11/04 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
