| 摘要 |
<P>Implanteur métallurgique d'ions métalliques à grande surface émissive, à flux important et à profondeur d'implantation réglable comportant à l'intérieur d'une chambre d'implantation maintenue sous vide au moins une source d'ions à arc sous vide 1, 2, 3, 4 dont les ions 5 sont extraits et projetés sur une cible 9 au moyen d'une électrode d'extraction et de focalisation 6, 7 et d'une électrode d'accélération 8 polarisées respectivement à très haute et à basse tension. La cible 9 bombardée par la projection ionique émet un flux d'électrons secondaires qui sont repoussés par une électrode suppresseuse 10 polarisée négativement par rapport à la cible mise à la masse.</P><P>Application en métallurgie.</P>
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