基片涂层设备

摘要

用GVD法将膜层沉积到玻璃等表面上的一种涂敷器，它包括一对喷嘴，用来在浓度与速度能使涂层在反应速率受控条件下进行时，将含于载体气体中的已气化涂层化合物涂敷于上述表面。各喷嘴从下方邻近此表面，二者间有间距以通向外部大气。此两喷嘴相互对向，且相对于基片表面法线所成的角度是预先选定的。此角度与此间距给出了涂层蒸汽不与外部大气混合的条件。

主权项

1、用来将膜层沉积到保持在一定沉积温度下基片表面上的一种设备，它包括： 一对相互相对且对向设置的喷嘴装置，用来将在载体气体中的已气化之涂层化合物，按预定的浓度与预定的蒸气速度涂敷于上述表面上，每个喷嘴装置都邻近此基片的前述表面且留出一间隙通向外部大气，并相对于表面法线成一定角度，此角度选定为基本上不会使化合物蒸气与外部大气混合； 供料装置，用来将上述已气化的涂层化合物与载体气体供给这一对喷嘴；以及 排气装置，用来排出废气。