| 摘要 |
<p>Belichtungseinrichtung für ein Gerät zur photolithographischen Herstellung von integrierten Schaltungen, bei der Licht einer Quecksilberdampflampe (1) über hintereingeschaltete Umlenkspiegel (6,7 bzw. 6',7') durch ein schmalbandiges Hauptfilter (8) geleitet wird. Zur Beseitigung der von diesem Hauptfilter (8) neben dem gewünschten Belichtungswellenlängenband ebenfalls durchgelassenen Seitenbänder sind anstelle der bisher üblichen zusätzlichen Transmissionsfilter die ohnehin vorhandenen Umlenkspiegel als wellenlängenselektive Schmalbandspiegel (6,7 bzw. 6',7') ausgebildet, deren Reflexionsgrad im Bereich des Belichtungswellenlängenbandes über 99 % und im Bereich der Seitenbänder unter 10 % liegt.</p> |
