发明名称 PHOTORESIST COMPOSITION AND PHOTORESIST DEVICE
摘要
申请公布号 JPS6433546(A) 申请公布日期 1989.02.03
申请号 JP19880122209 申请日期 1988.05.20
申请人 HOECHST AG;HOECHST CELANESE CORP 发明人 KURISUTOFUAA II OSATSUCHI;MAIKERU JIEEMUSU MATSUKUFUAARANDO
分类号 C08L35/00;C08L33/24;G03C1/72;G03F7/023;G03F7/039 主分类号 C08L35/00
代理机构 代理人
主权项
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