Negative photoresists on the basis of polyphenols and a choice of epoxide or vinyl ether compounds.

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Negativ-Photoresist bestehend im wesentlichen aus a) mindestens einem festen, filmbildenden Polyphenol, b) mindestens einem polyfunktionellen Epoxidharz und/oder einer polyfunktionellen Vinyletherverbindung, die sich in ungehärtetem Zustand unter Salzbildung in einer alkalisch-wässrigen lösen lassen, c) mindestens einem kationischen Photoinitiator für die Komponente b) und d) gegebenenfalls üblichen Zusätzen. Komponenten a) und b) können auch in einem Molekül zusammengefasst sein. Der Resist ist alkalisch-wässrig entwickelbar.