首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 METHOD OF REMOVING PHOTORESIST ON A SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 EP0234387(A3) 申请公布日期 1989.02.01
申请号 EP19870101772 申请日期 1987.02.09
申请人 FUJITSU LIMITED 发明人 FUJIMURA, SHUZO FUJITSU LIMITED PATENT DEPARTMENT;MOTOKI, YASUNARI FUJITSU LIMITED PATENT DEPARTMENT;KATO, YOSHIKAZU FUJITSU LIMITED PATENT DEPARTMENT
分类号 H01L21/30;G03F7/42;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/306;H01L21/3065;(IPC1-7):G03F7/26 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com