发明名称 Silica glass formation process
摘要
申请公布号 US4801318(A) 申请公布日期 1989.01.31
申请号 US19870008226 申请日期 1987.01.29
申请人 SEIKO EPSON CORPORATION 发明人 TOKI, MOTOYUKI;KANBE, SADAO;MIYASHITA, SATORU;TAKEUCHI, TETSUHIKO
分类号 C03B8/02;C03B19/12;C03C1/00;C03C3/06;(IPC1-7):C03B19/06 主分类号 C03B8/02
代理机构 代理人
主权项
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