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经营范围
发明名称
Silica glass formation process
摘要
申请公布号
US4801318(A)
申请公布日期
1989.01.31
申请号
US19870008226
申请日期
1987.01.29
申请人
SEIKO EPSON CORPORATION
发明人
TOKI, MOTOYUKI;KANBE, SADAO;MIYASHITA, SATORU;TAKEUCHI, TETSUHIKO
分类号
C03B8/02;C03B19/12;C03C1/00;C03C3/06;(IPC1-7):C03B19/06
主分类号
C03B8/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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