发明名称 R-F DISCHARGE-EXCITED LASER
摘要 Laser excité par une décharge HF, dans lequel on applique une tension HF sur un tube laser (1) pour provoquer l'oscillation laser. Le laser excité par une décharge HF comprend une source de tension HF (12) et un circuit adaptateur (16) assurant l'adaptation d'impédance entre la source de puissance HF et le tube laser. La liaison entre les réactances (C1, C2) du circuit adaptateur (16) est connectée au potentiel de terre du circuit HF. Cet agencement permet de limiter les variations du rayon laser provoquées par le courant mutuel et l'impédance mutuelle entre les tubes de décharge.
申请公布号 WO8900776(A1) 申请公布日期 1989.01.26
申请号 WO1988JP00710 申请日期 1988.07.15
申请人 FANUC LTD 发明人 EGAWA, AKIRA
分类号 H01S3/0975;(IPC1-7):H01S3/097 主分类号 H01S3/0975
代理机构 代理人
主权项
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