| 发明名称 |
PROCESS FOR FORMING A LOW RESISTANCE PATH IN SEMICONDUCTOR DEVICES |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0246513(A3) |
申请公布日期 |
1989.01.25 |
| 申请号 |
EP19870106700 |
申请日期 |
1987.05.08 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
JOHNSON, ERIC DAVID |
| 分类号 |
H01L31/107;H01L21/033;H01L21/266;H01L21/316;H01L21/331;H01L21/761;H01L29/06;H01L29/73;H01L31/10;(IPC1-7):H01L21/265;H01L21/314;H01L29/91;H01L21/00 |
主分类号 |
H01L31/107 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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