| 发明名称 |
MICROWAVE PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS6417869(A) |
申请公布日期 |
1989.01.20 |
| 申请号 |
JP19870172778 |
申请日期 |
1987.07.13 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
TANAKA MASAHIRO;AZUMA KAZUFUMI;WATANABE TAKESHI;NAKATANI MITSUO;SONOBE TADASHI |
| 分类号 |
C23C16/50;C23C16/511;H01L21/205;H01L21/31 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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