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发明名称 Apparatus for treatment of a process gas.
摘要 <p>The apparatus for treatment of a process gas comprises a vacuum pump provided with a heating portion (8) for preventing adhesion of reaction products on a discharge side (3) thereof.</p>
申请公布号 EP0299458(A2) 申请公布日期 1989.01.18
申请号 EP19880111226 申请日期 1988.07.13
申请人 HITACHI, LTD. 发明人 NAGAOKA, TAKASHI;GYOBU, ICHIRO;MURAMATSU, KIMIO;UEYAMA, KEIJI;MASE, MASAHIRO;AWADA, YOSHIHISA;NISHIUCHI, AKIRA
分类号 F04D17/16;F04D19/04;F04D29/58;F04D29/70 主分类号 F04D17/16
代理机构 代理人
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