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发明名称 ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM
摘要
申请公布号 JPS6411328(A) 申请公布日期 1989.01.13
申请号 JP19880120826 申请日期 1988.05.19
申请人 INTERNATL BUSINESS MACH CORP <IBM> 发明人 DONARUDO YUUJIN DEBUISU;SAMIYUERU KEI DOORAN;MIIRIN HARORUDO PAAKINSU;HANZU KURISUCHIYAN PIFUAIAA
分类号 G03F7/20;H01J37/304;H01J37/317;H01L21/027;H01L21/30 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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