发明名称 一种离子轰击减薄装置
摘要 本实用新型公开了一种新的离子轰击减薄装置,它既可以选用氩离子束流轰击样品,又可以选用碘离子束流轰击样品,设在样品室两侧的碘蒸气升华腔为形成碘离子束提供碘蒸气流。利用这种装置能够制备更多种材料的薄膜样品,满足透射电子显微镜的观测需求。
申请公布号 CN88206944U 申请公布日期 1988.12.28
申请号 CN88206944 申请日期 1988.06.17
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 王凤莲;褚一鸣;陆珉华
分类号 G01N1/28 主分类号 G01N1/28
代理机构 中国科学院专利事务所 代理人 卢纪
主权项 1、一种供制备透射电子显微镜观测样品用的离子轰击减薄装置,其特征为,在所设样品室两侧各接一个气流选通阀,选通阀的一个气流选择通道连通样品室与设在两侧的氩气入口,它的另一选择通道连通样品室与设在两侧的碘蒸气升华腔。
地址 北京市912信箱