| 发明名称 |
APPARATUS FOR SPUTTERING THIN LAYER TO SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS63307273(A) |
申请公布日期 |
1988.12.14 |
| 申请号 |
JP19880126906 |
申请日期 |
1988.05.24 |
| 申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
ARUMIN KOORUHAAZE;GEORUKU BIRUKUMAIERU;FURIIDORITSUHI UIINERUROITAA |
| 分类号 |
C23C14/54;C23C14/56;H01J37/32 |
主分类号 |
C23C14/54 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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