发明名称 Photoresist composition.
摘要 Beschrieben werden positiv arbeitende Photoresistzusammensetzungen, enthaltend (a) ein thermisch härtbares Epoxidharz, (b) einen latenten Harnstoff- oder Imidazol-Härter für die Komponente (a), und (c) einen Eisen-aren-Komplex der Formel (I) <IMAGE> worin n 1 oder 2 bedeutet, m 1, 2, 3, 4 oder 5 ist, X für ein nicht nukleophiles Anion steht, R¹ ein π-Aren ist und R² ein Anion eines π-Arens bedeutet. Diese zeichnen sich durch gute Temperatur- und Chemikalieneigenschaften aus und benötigen kurze Belichtungszeiten.
申请公布号 EP0295211(A2) 申请公布日期 1988.12.14
申请号 EP19880810362 申请日期 1988.06.02
申请人 CIBA-GEIGY AG 发明人 MEIER, KURT, DR.;LOSERT, EWALD
分类号 C08G59/50;C08G59/40;C08G59/70;G03C1/72;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;H05K3/06 主分类号 C08G59/50
代理机构 代理人
主权项
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