发明名称 |
Gas discharge device for producing extremely pure crystalline semiconductor substances |
摘要 |
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申请公布号 |
US2992984(A) |
申请公布日期 |
1961.07.18 |
申请号 |
US19550509980 |
申请日期 |
1955.05.20 |
申请人 |
SIEMENS & HALSKE AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
RUMMEL THEODOR |
分类号 |
B01J19/08;C01B19/00;C01B21/064;C01B21/072;C01B25/06;C01B33/02;C01B35/04;C22B5/16;C22B41/00;C22C1/00;C23C16/00;C30B11/12;C30B15/02;H01J37/32;H01L21/00 |
主分类号 |
B01J19/08 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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