| 发明名称 |
PROCEDE DE FABRICATION D'UN FILM POLYCRISTALLIN DE PHOSPHURE UTILE COMME MATERIAU OPTOELECTRONIQUE |
| 摘要 |
<P>L'invention a pour objet un procédé de fabrication d'un film d'un composé de phosphore.</P><P>Selon l'invention, on fait réagir la surface d'un support ayant au moins une surface consistant en un oxyde d'indium ou un oxyde de gallium ou leur mélange par contact avec un réactif réducteur gazeux contenant un composé gazeux de phosphore pour former sur la surface du support un film d'InP ou de GaP ou leur mélange.</P><P>Applications : fabrication de matériaux optoélectroniques par formation d'un film mince d'InP et/ou GaP polycristallin sur un film d'oxyde transparent conducteur formé sur un support transmettant la lumière.</P>
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| 申请公布号 |
FR2615762(A1) |
申请公布日期 |
1988.12.02 |
| 申请号 |
FR19880006958 |
申请日期 |
1988.05.25 |
| 申请人 |
NIPPON SHEET GLASS CO LTD |
发明人 |
HIROYUKI NAGAO;KAZUO TAKEMURA;MASAO MISONOU;HIDEO KAWAHARA |
| 分类号 |
C03C17/34;(IPC1-7):B05D3/10;B05D7/24;C01B25/08 |
主分类号 |
C03C17/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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