| 发明名称 |
MASK-SURROGATE SEMICONDUCTOR PROCESS EMPLOYING DOPANT-OPAQUE REGION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0238362(A3) |
申请公布日期 |
1988.11.30 |
| 申请号 |
EP19870302480 |
申请日期 |
1987.03.23 |
| 申请人 |
ADVANCED POWER TECHNOLOGY INC. |
发明人 |
HOLLINGER, THEODORE G. |
| 分类号 |
H01L21/68;H01L21/033;H01L21/266;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/336;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/24;H01L21/225 |
主分类号 |
H01L21/68 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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