| 发明名称 | 羧酸酯的还原方法 | ||
| 摘要 | 生产上式(I)所示化合物的方法：式中R<SUP>1</SUP>和R<SUP>2</SUP>各代表低级烷基；n表示0至21的整数；X代表氢原子或任意被保护的羟基；Y代表任意被保护的羟基，该方法包括用硼氢化钠与氯化铝混合物还原上式(II)所示酯化合物。式中R<SUP>1</SUP>、R<SUP>2</SUP>、n、X和Y所代表的意义同上，R<SUP>3</SUP>代表低级烷基，用此方法所得产品化合物的产率高，对工业生产有利。 | ||
| 申请公布号 | CN88102561A | 申请公布日期 | 1988.11.23 |
| 申请号 | CN88102561 | 申请日期 | 1988.04.27 |
| 申请人 | 武田药品工业株式会社 | 发明人 | 冈田泰一;阿部保明 |
| 分类号 | C07C43/235;C07C41/01 | 主分类号 | C07C43/235 |
| 代理机构 | 中国专利代理有限公司 | 代理人 | 杨九昌;马崇德 |
| 主权项 | 1、生产下式所示化合物的方法：<img file="88102561_IMG2.GIF" wi="673" he="367" />式中R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>各代表低级烷基；n表示0至21的整数；X代表氢原子或被任意保护的羟基；Y代表被任意保护的羟基，该方法包括用硼氢化钠与氯化铝混合物还原通式如下的酯类化合物<img file="88102561_IMG3.GIF" wi="707" he="373" />式中R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、n、X和Y所代表的意义同上，R<sup>3</sup>代表低级烷基。 | ||
| 地址 | 日本大阪市 | ||