发明名称 |
TEST PATTERN FOR MONITORING CHANGE OF LIMIT DIMENSION OF PATTERN IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS |
摘要 |
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申请公布号 |
JPS63253201(A) |
申请公布日期 |
1988.10.20 |
申请号 |
JP19880065597 |
申请日期 |
1988.03.18 |
申请人 |
SANSEI HANDOTAI TSUSHIN KK |
发明人 |
RII UONSHIKU |
分类号 |
G01B3/30;G01B3/04;G03F7/20;H01L21/66 |
主分类号 |
G01B3/30 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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