| 摘要 |
<p>Un fluide s'écoulant continuellement est traité en l'amenant au sommet d'une colonne hydraulique à tirage descendant (17) dont la hauteur est telle que la pression au fond de la colonne est approximativement égale à la pression nécessaire pour créer des conditions d'eau surcritiques. Le fluide est conduit vers le fond de la colonne (17) et reçu dans une chambre de réaction (21) dans laquelle on fait recirculer la majorité du fluide autour d'une plaque de déviation annulaire (24). Le matériau dans la chambre de réaction (21) est chauffé jusqu'à atteindre une température supérieure à la température nécessaire pour créer des conditions d'eau surcritiques par une réaction indépendante ayant lieu dans une chambre de chauffage (32). Le résultat est que le fluide est soumis à des réactions chimiques dans une plage de température et de pression surcritique et que son poids volumique est inférieur à celui du fluide non traité. Le matériau que l'on n'a pas fait recirculer dans la chambre (21) est amené vers l'une des deux colonnes à tirage ascendant (30, 31), à savoir une colonne de départ (30) utilisée pour rechauffer le matériau dans la colonne de tirage desçandant (17) pendant le début du procédé et une seconde colonne (31) isolée de la colonne à tirage descendant (17) de manière à ne pas lui transmettre de chaleur pendant le déroulement normal du procédé. La température du fluide dans la colonne à tirage descendant (17) est ainsi régulée pour empêcher la décomposition du matériau jusqu'à ce que le fluide entre dans la chambre de réaction (21), moment où il est brusquement amené à la température d'eau surcritique.</p> |
