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发明名称 PHOTORESIST COMPOSITION
摘要 Spin castable radiation sensitive compositions are provided by forming an organic solvent solution of a novolak resin, an organic polymer having chemically combined acid labile groups, and an aryl onium salt.
申请公布号 JPS63250642(A) 申请公布日期 1988.10.18
申请号 JP19880042410 申请日期 1988.02.26
申请人 GENERAL ELECTRIC CO <GE> 发明人 JIEEMUZU BINSENTO KURIBERO;MAIKERU JIYOSEFU OBURAIEN;JIYURIA RAMU RII
分类号 G03C1/72;C08K5/00;C08L61/04;C08L61/06;G03F7/00;G03F7/039 主分类号 G03C1/72
代理机构 代理人
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