发明名称 THERMAL STABILIZATION OF PHOTORESIST IMAGES
摘要 Grâce à l'application d'un polymer filmogène résistant aux hautes températures, on a réussi dans le passé à stabiliser des couches de photoréserve, telles que notamment les couches utilisées pour des géométries à haute résolution dans des applications micro-électroniques, pour combattre les distorsions ou les dégradations causées par la chaleur produite durant des opérations d'attaque ultérieure, d'implantation d'ions et similaire. On a découvert que, lorsque l'épaisseur de la couche de photoréserve dépasse un micron environ, le revêtement du polymère filmogène a tendance à subir des distorsions et/ou à produire des fissures, des ruptures et similaires dans la photoréserve, ce qui a pour conséquence une perte de la géométrie requise dans l'image de la couche de photoréserve. Selon la présente invention, on peut surmonter ce problème en appliquant le polymère filmogène sous la forme d'un spray vaporisé par ultrasons (24) dans des conditions contrôlées.
申请公布号 WO8807704(A1) 申请公布日期 1988.10.06
申请号 WO1987US02913 申请日期 1987.11.05
申请人 MACDERMID, INCORPORATED 发明人 LABIANCA, NANCY, C.
分类号 G03F7/40;(IPC1-7):G03C5/00 主分类号 G03F7/40
代理机构 代理人
主权项
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