Die Erfindung betrifft neue Alkenylphenol-Copolymere bzw. deren Ether. Die Copolymeren nach der Erfindung sind Alkenylphenol- bzw. Alkenylphenolether-Alkenylsilan-Copolymere der allgemeinen Formel: <IMAGE> Photoresists
申请公布号
EP0283764(A1)
申请公布日期
1988.09.28
申请号
EP19880103002
申请日期
1988.02.29
申请人
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT BERLIN UND MUNCHEN
发明人
SEZI, RECAI, DR.;BIRKLE, SIEGFRIED, DR.;FEUCHT, HANS-DIETER, DR.
