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发明名称 METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING FORMING A MULTI-LEVEL INTERCONNECTION LAYER
摘要
申请公布号 EP0216017(A3) 申请公布日期 1988.09.21
申请号 EP19860107736 申请日期 1986.06.06
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 MASE, YASUKAZU PATENT DIVISION K.K. TOSHIBA;ABE, MASAHIRO PATENT DIVISION K.K. TOSHIBA;AOYAMA, MASAHARU PATENT DIVISION K.K. TOSHIBA
分类号 H01L23/522;H01L21/3205;H01L21/768;H01L27/00;(IPC1-7):H01L21/90;H01L21/60 主分类号 H01L23/522
代理机构 代理人
主权项
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