Process and device for controlling the reactive coating of substrates with layers, using magnetron cathodes.

摘要

Verfahren und Vorrichtung zur Regelung der reaktiven Schichtabscheidung bei Magnetronkatoden mit leitfähigen Targets. Die Intensität mindestens einer Spektrallinie des Targetmaterials im Plasma des Zerstäubungsvorganges wird überwacht und der Reaktionsgaseinlaß wird in Abhängigkeit von dieser Intensität unter Vorgabe eines Sollwertes geregelt. Die Messung der Intensität der besagten Spektrallinie erfolgt im Plasma zwischen Target und Substrat. Die Regelung des Reaktionsgaseinlasses erfolgt während des Schichtaufbaus mit kürzest möglicher Zeitkonstante. Dabei wird der genannte Sollwert in Abhängigkeit von mindestens einer Eigenschaft der fertigen Schicht in der Weise gleitend verstellt, daß die vorgegebene Schichteigenschaft soweit wie möglich konstant gehalten wird.