Detector objective for a scanning microscope.

摘要

In allen Bereichen der Entwicklung und Fertigung mikro- und optoelektronischer Bauelemente besteht ein steigender Bedarf an hochauflösenden abbildenden Systemen, die eine prozeßnahe Inspektion der mit Hilfe moderner Lithografieverfahren erzeugten Submikrometerstrukturen ermöglichen. Konventionelle Rasterelektronenmikroskope erreichen eine Auflösung von wenigen Nanometern nur bei hohen Beschleunigungsspannungen oberhalb etwa 20 kV, wo Resiststrukturen und Schaltungen geschädigt und nicht- oder schlechtleitende Proben aufgeladen werden. Das erfindungsgemäße Detektorobjektiv für Rastermikroskope besteht im wesentlichen aus einer Immersionslinse und einem ringförmigen Detektorsystem (DT), das zwischen der auf positivem Potential (Us) liegenden quellenseitigen Elektrode (HZ, RB) und der ebenfalls auf einem variablen positiven Potential liegenden mittleren Elektrode (KS1) der Immersionslinse (OL) konzentrisch zur Strahlachse (OA) des Rastermikroskopes angeordnet ist. Die mittlere und die quellenseitige Elektrode (KS1 bzw. KS2) sind vorzugsweise kegelstumpfförmig ausgebildet. In die aus einer ringförmigen Blende und einem Hohlzylinder bestehende quellenseitige Elektrode der Immersionslinse (OL) ist vorzugsweise ein zweistufiges Ablenkelement zum Positionieren des primären Teilchenstrahls (PE) auf einer Probe (PR) integriert.