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发明名称 REACTIVE ION ETCHING DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF USING IT
摘要
申请公布号 EP0210858(A3) 申请公布日期 1988.08.17
申请号 EP19860305779 申请日期 1986.07.28
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 BUMBLE, BRUCE;CUOMO, JEROME JOHN;LOGAN, JOSEPH SKINNER;ROSSNAGEL, STEVEN MARK
分类号 H05K3/08;C23C14/34;C23F1/04;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 H05K3/08
代理机构 代理人
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