| 发明名称 |
METHOD OF FORMING A WINDOW IN A PASSIVATING LAYER OF A SEMICONDUCTOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US3489658(A) |
申请公布日期 |
1970.01.13 |
| 申请号 |
USD3489658 |
申请日期 |
1969.03.03 |
| 申请人 |
AVCO CORP. |
发明人 |
DAVID M. RANDALL;ROBERT C. HENNE |
| 分类号 |
H01L21/311;H01L23/29;H01L23/485;(IPC1-7):B01J1/12;H01L7/50 |
主分类号 |
H01L21/311 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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