发明名称 |
Ion implant using tetrafluoroborate |
摘要 |
Metal tetrafluoroborates, alkali and alkaline earth tetrafluoroborates in particular, and preferably lithium tetrafluoroborate are used as ion source materials in ion implantation of semiconductor materials with boron.
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申请公布号 |
US4760263(A) |
申请公布日期 |
1988.07.26 |
申请号 |
US19860946784 |
申请日期 |
1986.12.29 |
申请人 |
AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC. |
发明人 |
LAGENDIJK, ANDRE;RIAHI, SHANTIA |
分类号 |
H01J27/02;(IPC1-7):H01J27/02 |
主分类号 |
H01J27/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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