发明名称 功率半导体器件的电极引出技术
摘要 本发明通过制作一组导电、绝缘薄膜,对半导体器件芯片表面电极进行有选择的电镀,并在电镀层上加金属压块或焊接引线。从而构成完整的主电极引出工艺。本发明能满足可关断晶闸管(GTO)一类器件精细的多个孤立主电极的并联引出要求,也可同样方便地用于巨型晶体管(GTR)、门极辅助关断晶闸管(GATT)等一般功率半导体器件的制造工艺。本发明可采用平面工艺,允许有较高集成度。使用设备简单、成本低廉、可靠性好,并适合于大批量生产。
申请公布号 CN86109631A 申请公布日期 1988.07.20
申请号 CN86109631 申请日期 1986.12.26
申请人 浙江大学 发明人 吕征宇
分类号 H01L21/60;H01L21/88 主分类号 H01L21/60
代理机构 浙江大学专利代理事务所 代理人 陈桢祥
主权项 1、一种功率半导体器件的电极引出工艺,本发明特征是,在功率半导体器件芯片上制作各电极的导电基底层,此芯片上再加绝缘介质膜作为隔离层,隔离层开有窗口,窗口位置与各单元主电极基底层一一对应,以保证主电极电流基本垂直地流过基底层,在隔离层上面有一连通导电薄膜作为连通层,使连通层与隔离层窗口内的主电极基底层连通,连通层上加绝缘介质膜作为电镀屏蔽层,在屏蔽层选定部位开窗,即电镀窗,在屏蔽层下电镀窗位置有一金属膜作为电镀底层,以芯片上连通层作为电镀阴极的连接导体,放在电镀槽内电镀金属层,再除去屏蔽层和电镀窗外的连通层、隔离层(如作为钝化膜,则可保留),最后在电镀层上加导电、导热性能良好的平整金属压块以压接方式封装,从而构成完整的主电极并联引出结构,芯片的其它电极可以采用各种常规方法引出。
地址 浙江省杭州市玉泉