发明名称 SEMICONDUCTOR WAFER EXPOSURE DEVICE WITH SYNCHROTRON RADIATION IN A LITHOGRAPHY APPARATUS
摘要
申请公布号 EP0253283(A3) 申请公布日期 1988.07.20
申请号 EP19870109818 申请日期 1987.07.07
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT BERLIN UND MUNCHEN;KARL SUSS KG PRAZISIONSGERATE FUR WISSENSCHAFT UND INDUSTRIE - GMBH & CO.;FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FORDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. 发明人 MULLER, KARL-HEINZ, DR.;BETZ, HANS, DR.-ING.;VACH, WILHELM, DR.;KRENNER, JOHANN
分类号 G03F9/00;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人
主权项
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