摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft Zusammensetzungen enthaltend a) mindestens ein Polyimid mit einer inhärenten Viskosität von mindestens 0,1 dl/g (gemessen an einer 0,5 gew.%igen Lösung in N-Methylpyrrolidon bei 25°C) enthaltend mindestens 50 Mol% an Struktureinheiten der Formel I <IMAGE> worin m und p unabhängig voneinander ganze Zahlen von 0 bis 4, n eine ganze Zahl von 0 bis 3 bedeutet, R¹ und R² unabhängig voneinander C1-C6-Alkyl oder C1-C6-Alkoxy bedeuten und R³ ein zweiwertiger Rest eines aromatischen Diamis ist, der in wenigstens einer Orthostellung zu wenigstens einem N-Atom durch Alkyl, Alkoxy, Alkoxyalkyl, Cycloalkyl oder Aralkyl substituiert ist, oder bei dem zwei benachbarte C-Atome des aromatischen Restes durch Alkylen substituiert sind und b) mindestens ein in organischen Lösungsmitteln lösliches und photovernetzbares aromatisches Polyimid, das wenigstens 50 Mol%, bezogen auf die Gesamtmenge der Diamineinheiten, Reste R³ enthält und das wenigstens 50 Mol%, bezogen auf die Gesamtmenge der aromatischen Tetracarbonsäureeinheiten, vierwertige aromatische Tetracarbonsäurereste mit wenigstens einer Benzophenoneinheit enthält. Die Polyimidmischungen zeichnen sich durch eine gute Haftung auf unterschiedlichen Substraten aus und besitzen eine hohe Photoempfindlichkeit. Sie lassen sich zur Herstellung von Schutzüberzügen und Reliefstrukturen einsetzen und eigenen sich besonders zur Herstellung von Aetzmasken.
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