发明名称 Antistatic photographic support material.
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Trägermaterial für fotografische Schichten mit einem antistatischen Rückseitenstrich, der mindestens vier Komponenten enthält: a. Eine kolloidale aluminiummodifizierte Kieselsäure, b. Ein Alkalisalz einer organischen Polysäure, c. Eine wässrige Dispersion von Copolymeren von Acrylsäurealkylester mit einem Gehalt an freien Carboxylgruppen von 1- 10 Mol-% und an freien Hydroxylgruppen von 0 - 20 Mol-%, d. Ein trifunktinonelles Aziridin als Vernetzungsmittel und ein Verfahren zu dessen Herstellung. Die antistatische Rückseite des erfindungsgemäßen fotografischen Materials weist eine geringe Schmutzaufnahme beim Durchgang durch Walzentransportentwicklungsmaschinen, eine hohe Abriebfestigkeit und Beständigkeit in alkalischen Entwicklerlösungen, gute Bedruckbarkeit beim Bedrucken mit herkömmlichen Druckfarben, gute Beschriftbarkeit sowie auch eine gute Klebebandhaftung auf.</p>
申请公布号 EP0274017(A2) 申请公布日期 1988.07.13
申请号 EP19870116068 申请日期 1987.10.31
申请人 FELIX SCHOELLER JR. FOTO- UND SPEZIALPAPIERE GMBH & CO. KG 发明人 SAVERIN, ECKEHARD;TYRAKOWSKI, HANS-UDO
分类号 G03C1/85 主分类号 G03C1/85
代理机构 代理人
主权项
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