摘要 |
<p>Bei einer Oberfläche für elektrische Entladungen, insbesondere innerhalb von Gasen, wird außer einer gleichmäßgen Verteilung der Feldverstärkungsfaktoren eine Steigerung der Photonen- und/oder der Elektronendichte bei der Entladung angestrebt. Dies erreicht man im wesentlichen dadurch, daß man eine Mkrostruktur (1) verwendet, die sich aus mindestens zwei Materialien (2, 3 und 4) unterschiedlicher physikalischer Eigenschaften zusammensetzt und die außerdem auch noch eine die Elektronenemission erhöhende geometrische Form besitzt (Fig. 1).</p> |
申请人 |
ELTRO GMBH GESELLSCHAFT FUER STRAHLUNGSTECHNIK;DOCUCO KG |
发明人 |
FREY, PETER, DR. RER. NAT.;KLINK, NORBERT, DIPL.-ING.;PREIN, FRANZ, DIPL.-PHYS.;WIEGAND, JUERGEN, DIPL.-ING. |