发明名称 METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING AN IMPLANTATION STEP
摘要
申请公布号 EP0195867(A3) 申请公布日期 1988.06.08
申请号 EP19850308503 申请日期 1985.11.22
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 MIKAMI, HITOSHI PATENT DIV. K.K. TOSHIBA;FUKUDA, KATSUYOSHI PATENT DIV. K.K. TOSHIBA;YASUAMI, SHIGERU PATENT DIV. K.K. TOSHIBA
分类号 H01L29/812;H01L21/265;H01L21/338;H01L29/04;H01L29/80;(IPC1-7):H01L21/265 主分类号 H01L29/812
代理机构 代理人
主权项
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