LOW TEMPERATURE PROCESS FOR ANNEALING SHALLOW IMPLANTED N+/P JUNCTIONS,申请号EP19840307173-传众专利搜索

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发明名称	LOW TEMPERATURE PROCESS FOR ANNEALING SHALLOW IMPLANTED N+/P JUNCTIONS
摘要
申请公布号	EP0146233(B1)	申请公布日期	1988.06.01
申请号	EP19840307173	申请日期	1984.10.18
申请人	WESTINGHOUSE ELECTRIC CORPORATION	发明人	ROHATGI, AJEET;SINGH, RANBIR;RAI-CHOUDHURY, PROSENJIT;FONASH, STEPHEN JOSEPH;GIGANTE, JOSEPH ROBERT
分类号	H01L21/324;H01L21/265;H01L21/30;H01L31/04;(IPC1-7):H01L21/324	主分类号	H01L21/324
代理机构		代理人
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