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发明名称 POLYSILAN-PHOTORESISTMATERIALIEN UND DEREN VERWENDUNG ZUR PHOTOMUSTERUNG EINES POSITIVEN BILDES AUF EINEM SUBSTRAT.
摘要
申请公布号 CH665646(A5) 申请公布日期 1988.05.31
申请号 CH19850001492 申请日期 1985.04.03
申请人 UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY 发明人 HARRAH, LARRY ALLAN;ZEIGLER, JOHN MARTIN
分类号 G03F7/26;C08G77/00;C08G77/48;C08G77/60;G03C5/00;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/075;G03F7/36;H01L21/30;(IPC1-7):C08G77/60;G03F7/00;H05K1/02 主分类号 G03F7/26
代理机构 代理人
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