摘要 |
<P>LE DISPOSITIF ET LE PROCEDE DE TRAITEMENT SOUS PRESSION ET TEMPERATURE CONTROLEES COMPREND UN RECIPIENT SOUS PRESSION 10 CONTENANT DES SOLES ANNULAIRES SUPERPOSEES 64 DANS UNE ZONE DE REACTION QUI SONT FORMEES D'UNE SURFACE SUPERIEURE PERFOREE COMMUNIQUANTAVEC UNE CHAMBRE POUR INJECTER UN FLUIDE CHAUFFE PAR CONTACT AVEC ECHANGE DE CHALEUR AVEC LE MATERIAU D'ALIMENTATION DISPOSE AU-DESSUS. LE FLUIDE OU GAZ DE CHAUFFAGE INJECTE DANS UNE COMBINAISON ULTERIEURE AVEC LES GAZ VOLATILS SE DEGAGEANT PENDANT LA REACTION THERMIQUE DE RESTRUCTURATION PASSE A CONTRE-COURANT DU DEPLACEMENT DU MATERIAU D'ALIMENTATION POUR EFFECTUER SON PRECHAUFFAGE A UNE TEMPERATURE MODEREE DANS UNE ZONE DE PRECHAUFFAGE. DE PREFERENCE, AU MOINS UNE PARTIE DES GAZ VOLATILS PROVENANT DU DISPOSITIF SONT TRAITES POUR EN ENLEVER LES PARTIES CONDENSABLES ET SONT RECHAUFFES ET PRESSURISES POUR RECYCLAGE DANS LE DISPOSITIF. EN MARCHE, LE DISPOSITIF EST DESTINE A FONCTIONNER A DES TEMPERATURES COMPRISES ENTRE ENVIRON 90 C ET ENVIRON 650 C, A DES PRESSIONS COMPRISES GENERALEMENT ENTRE ENVIRON 2,1 ET ENVIRON 21 MPA. ON PEUT EMPLOYER DES TEMPS DE SEJOUR AUSSI FAIBLES QU'UNE MINUTE ET POUVANT ATTEINDRE UNE HEURE EN FONCTION DU TYPE DU MATERIAU D'ALIMENTATION ET DU PRODUIT SOLIDE AMELIORE QU'ON DESIRE.</P>
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