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Das Verfahren zur Herstellung von Laser-Kathoden mittels eines Vakuumbeschichtungsprozesses sieht ein gut gesteuertes langsames Schichtwachstum unter gleichzeitiger Anwesenheit des Laser-Gases bei einem Gesamtdruck von bis zu 5 x 10<-><4> mbar vor. Dadurch wird bereits vor dem Betrieb des Lasers die Einlagerung von Laser-Gasatomen in die Kathodenschicht begünstigt. Ohne das Vakuum zu brechen, wird die beschichtete Kathode dann in eine zweite Position überführt und über eine Düse (7) wird Laser-Gas unter geringem Druck gegen die Kathodenbeschichtung (4) eingeleitet. Gleichzeitig werden über die elektrisch leitende Unterlage (2) für den Kathodengrundkörper (1) und eine konzentrisch zur Düse (7) angeodnete Elektrode (8) mehrere Entladungszyklen ausgelöst, die durch vorzeitiges Absputtern eine Einebnung der Stromdichte und ein weiteres Einlagern von Inertgasatomen in die Al-Beschichtung (4) bewirken. Nach mehreren Entladungszyklen kann außerdem eine geringe Menge Sauerstoff beigegeben werden, so daß noch vor dem Fluten des Rezipienten eine Al2O3-Passivierungsschicht gebildet wird. Durch das Verfahren wird die Betriebszuverlässigkeit und Langzeitstabilität von Laser-Verstärkern und Laser-Oszillatoren wesentlich erhöht.
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