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发明名称 LOW PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF METAL SILICIDE
摘要
申请公布号 JPS63109172(A) 申请公布日期 1988.05.13
申请号 JP19870154603 申请日期 1987.06.23
申请人 VARIAN ASSOC INC 发明人 PIITAA JIEI GATSUTSUI
分类号 H01L21/285;C23C16/42;H01L21/28 主分类号 H01L21/285
代理机构 代理人
主权项
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