首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD
摘要
申请公布号
JPS6398128(A)
申请公布日期
1988.04.28
申请号
JP19860242916
申请日期
1986.10.15
申请人
HITACHI LTD
发明人
MURAI FUMIO;OKAZAKI SHINJI
分类号
H01L21/027;H01L21/30
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
一种无铅焊锡膏用无卤助焊剂
一种洁净工作台
一种集成式多功能曲轴皮带轮结构
一种双杯可调色温、显指及七彩可调LED灯
智能检测的室内安全系统
灯具IP防护测试喷淋装置
有机电致发光器件及其制作方法
一种易开启罐头
一种新型血管鞘
肝适能固态分散物、包括其的药的组成物以及其制备方法
一种丝瓜沐浴液
高效水泵叶轮
一种清肺补气豆干及其制备方法
一种能减少粪便重金属排放和防腹泻的乳猪预混料
用于三分量检波器接收的微地震事件方位角自动质控方法
梨己糖激酶基因PbHXK1及其应用
对锂聚合物电池内荷电状态的实时估计中的松弛模型
散热器用复合箔材料及其制造方法
单晶CVD合成金刚石材料
置换式热水器混水阀