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发明名称 METHOD OF PLASMA-CHEMICAL WORKING OF SEMICONDUCTOR WAFERS
摘要
申请公布号 SU1088589(A1) 申请公布日期 1988.04.07
申请号 SU19823518203 申请日期 1982.10.20
申请人 SOLOGUB V.A.,SU;DOLGOPOLOV V.M.,SU;IVANOV V.I.,SU;GUSHCHIN O.P.,SU;KHOBBIKHOZHIN SH.A.,SU;MEDVEDEV A.P.,SU 发明人 SOLOGUB V.A.,SU;DOLGOPOLOV V.M.,SU;IVANOV V.I.,SU;GUSHCHIN O.P.,SU;KHOBBIKHOZHIN SH.A.,SU;MEDVEDEV A.P.,SU
分类号 H01L21/3065;H01L21/306 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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